セミナー:グラフェンの商用化に向けた研究開発動向と量産化への課題(2017/05/17 (水):東京都千代田区)

(株)シーエムシー・リサーチ セミナー情報

グラフェンの商用化に向けた研究開発動向と量産化への課題

講 師 長谷川雅考 氏 (国研)産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 炭素系薄膜材料グループ 研究グループ長
会 場 ちよだプラットフォームスクウェア 501会議室 【東京都千代田区】
〒101-0054 東京都千代田区神田錦町3-21
日 時 2017年05月17日(水) 13:30~16:30 
聴講料 1名につき42,000円(税込) ※ 資料代含

※シーエムシーリサーチのメルマガ登録者は39,000円(税込) ※ 資料代含(申込フォーム記入時に登録できます)
特 典 * アカデミック価格は 35,000円(税込)
主催 (株)シーエムシー・リサーチ

セミナーの趣旨

 ここ数年グラフェンは合成技術、量産技術、用途開発などすべての方面において大きく進展し、工業利用が一部始まっている。本講座ではグラフェンの特性および合成法の基礎をレビューし、それをもとに最新の技術開発を議論する。特にグラフェンと関連する二次元材料との組み合わせが実用上重要であり、これについても織り交ぜて講演する。
 さらに現在進められている用途開発と直面する課題について検討し、グラフェンと二次元材料の可能性と今後の展開について議論する。具体的にどのような分野で実現しそうなのか、世界的な開発の方向性はどうかなど、世界的な動向を把握する機会とし、これからグラフェンの取り扱いを始めたい方から、グラフェンの開発をすでに進めている方まで、それぞれのフェーズに合わせて業務に役立つ講座とする。

プログラム

1. グラフェンの特性
 1.1 特性のまとめ
 1.2 電気的特性・光学的特性の基礎
 1.3 機械的特性
 1.4 熱的特性
 1.5 ガス透過性

2. グラフェン研究開発の歴史
 2.1 グラフェンの理論的予測
 2.2 最初のグラフェンの発見
 2.3 グラファイトのテープ剥離による世界初のグラフェンの単離
 2.4 エポックメーキングな実験
 2.5 日本の炭素材料開発およびグラフェン開発

3. グラフェンの形成法
 3.1 剥離などによるグラフェンの形成
 3.2 酸化グラフェンおよび酸化グラフェンの還元による剥離グラフェンの形成
 3.3 酸化グラフェンを経ない剥離グラフェンの形成
 3.4 熱CVDによるグラフェンの形成
 3.5 プラズマを利用したグラフェンのCVD合成
 3.6 グラフェンの高スループットCVD合成の試み
 3.7 その他

4. グラフェンの量産に向けた試みと現状の課題
 4.1 酸化グラフェン大量生産の現状
 4.2 CVDグラフェンのロールツーロール合成の試み

5. バンドギャップを形成する試み (半導体用途を目指して)
 5.1 二層グラフェンによるバンドギャップ形成
 5.2 ナノリボンによるバンドギャップ形成

6. グラフェンの用途開発の現状
 6.1 透明導電膜用途
 6.2 バッテリー関連用途
 6.3 フィルタレーション用途
 6.4 ガス高純度化用途
 6.5 センサー用途
 6.6 その他

7. 世界のグラフェン研究開発動向



<確認事項>

  • その他、ご不明な点は備考欄にご記入ください。

(株)シーエムシー・リサーチ 技術セミナー情報

開催日地区セミナータイトル

すべての技術セミナー情報