三菱ガス化学、高純度一酸化炭素(CO)製造プラント(MGC−MDプラント)竣工

平成14年08月08日

三菱ガス化学株式会社

 三菱ガス化学株式会社は、鹿島工場において、ポリカーボネート製造用に、自社技術であるMDプロセスおよび自社開発のMD触媒を用いた高純度CO 製造プラントを竣工しました。
 MDプロセスは、メタノールを原料に用いたユニークなCO 製造方法であり、反応温度が300℃と比較的低温であることから、起動・停止、負荷変動が容易に行えます。
 また、クリーンな原料であるメタノールを使用しているため、脱硫等の前処理を必要としないことも特長のひとつです。
 適切な精製装置と組み合わせることにより、種々の用途に用いることが考えられ、深冷分離装置あるいはCOPSAと組み合わせれば、高純度CO製造プラントとして、また、H2PSAを付加すれば高純度H2 も併産することが可能となります。
 また、膜分離装置あるいはH2PSAと組み合わせれば、任意のモル比のCO、H2 混合ガスおよび高純度H2 が得られます。
 今回鹿島工場に設置したMDプラントにおいても、高純度C0だけではなく、高純度H2を併産しており、高純度H2 は過酸化水素製造用に使用しています。
 これまでの実績プラントは、CO製造能力として700~4,000Nm3/Hr と比較的大規模なものでしたが、COPSAとの組み合わせにより、パッケージ化した小規模(10Nm3/Hr~)プラントの拡販も進めて行きたいと考えています。
 MGC では、これ迄メタノール水蒸気改質法高純度H2 製造プラント(MGC−MHプラント)の販売を中心に行って来ましたが、今後は、高純度CO および高純度H2 が併産可能なMDプラントの販売も積極的に進める予定です。
 原料であるメタノールは、今後、大規模製造プラントの建設が世界的に多数計画されており、原料の供給安定性はこれまで以上に高まることが期待され、MDプラントは益々使い易くなるものと思われます。

 

三菱ガス化学株式会社
三菱ガス化学株式会社
http://www.mgc.co.jp/(日本語)
http://www.gasbarriertechnologies.com/(英語)

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