セミナー:【テレワーク対応・WEBセミナー】EB応用プロセスの基礎と照射装置の使い方、プロセス最適化、応用技術(微生物不活化,等)(2020/08/25 (火):)

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【テレワーク対応・WEBセミナー】EB応用プロセスの基礎と照射装置の使い方、プロセス最適化、応用技術(微生物不活化,等)

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  • EB(電子線)技術の新しい展開(小型化、安価、応用)!
  • 初めて学ぶ方にも基礎知識を解説後、実際の装置の使い方、「withコロナ時代」に再注目されている
     応用技術(微生物の不活化、架橋、グラフト重合、コーティング、接着の硬化)に至るまで著名専門家2名が解説!
  • 薬剤等では滅菌処理できない素材に対して、短時間・常温で滅菌が可能な「電子線連続滅菌」の効果も解説予定!
セミナー番号 S200812
講 師 第1部:早稲田大学 理工学術院 総合研究所 教授 鷲尾 方一 氏
第2部:(株)アイ・エレクトロンビーム 代表取締役 木下 忍 氏
会 場 ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座 
日 時 2020年08月25日(火) 13:00-16:10
聴講料 41,800円(税込、資料費用を含む)

2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。
※2名以上ご要望の場合は備考欄にその旨お書きくださいませ。
詳細 ※ お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約を必ず、ご確認ください。
※ 銀行振り込みをご選択ください。お支払いは会社のご都合で講座前日に間に合わない場合、開催月翌月末あたりまでお待ち申し上げます。
※ お申し込み後、受講票と請求書が自動で返信されます。請求書記載の銀行口座に沿って、お振り込みをお願いします。また請求書に記載の「株式会社」や「(株)」「会社名」はお客様の記入通りの表記になりますので、ご希望の形式で記載をお願いします。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、請求書受講票を代表者様にご連絡します。
※ 領収書の要望があれば、申込時、備考欄へ記載ください。
※ ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせていただくことがございます
※ 当講座では、同一部署、申込者のご紹介があれば、何名でもお1人につき11,000円で追加申し込みいただけます。(申込者は正規料金、お二人目以降は11,000円となります)。
WEB受講は名簿をご提出いただきます。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取り纏めいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者のお名前を備考欄にお書きくださいますよう、お願いいたします。

上記以外は正規料金となりますのでご理解ください。
主催 (株)AndTech

プログラム

第1部 EB応用プロセスの基礎とプロセス最適化のポイント、応用例


【13:00-14:30】

講師:早稲田大学 理工学術院 総合研究所 教授 鷲尾 方一 氏

【著作・受賞・経歴】
・低エネルギー電子線照射の技術と応用、2000年、CMC出版
・EB技術を応用した材料創製と応用展開、2016年、CMC出版
・第16回 りそな中小企業優秀新技術・新製品賞 産学官連携特別賞
・日本放射線化学会 学会賞(コンパクト高品質量子ビーム源の開発と利用)

【キーワード】
1. EB応用プロセス
2. 低環境負荷
3. 簡便な新機能付与

【講演主旨】
EBプロセスは古くは1950年代に実用化が始まり、その歴史は優に60年を超えている。ところが、多くの工業製品を生み出しながら、世の中にはその技術があまり知られていない状況が続いている。
本講演で筆者の過去の苦労話とそれをどのような形で突破しあるいはもろくも崩れ去ったかといった、いわゆる「よた話」も含めて技術の概要を紹介していきたい。
一方、EBプロセスを実現するために、数多くのノウハウに属する知識とその周知の必要性も強く感じており、それらについても簡単に触れてみたい。

【プログラム】
1.EB応用プロセスの歴史と概要
 1-1 1950年代に始まったEBプロセス
 1-2 第1回放射線プロセス国際会議で何があった?
 1-3 1980年代以降に始まった新しいEB応用プロセス

2.EB応用技術の根幹
 2-1 放射線応用の経済規模
 2-2 現在におけるEB応用分野と技術
 2-3 EBプロセスのメリット、EB(⇒エコビームと呼ばれる訳)

3.EBの具体的応用例
 3-1 架橋技術
 3-2 グラフト技術
 3-3 硬化技術
 3-4 滅菌技術
 3-5 インプリント技術等

4.EB反応の基礎
4-1 EBに誘起される反応中間体の生成量(濃度)
4-2 電子と物質の相互作用の詳細
 4-3 EB反応を支配する因子
 4-4 対象物質の官能基、構成元素の影響

5.EB応用プロセスのノウハウとEB装置(概要)
 5-1 生成ラジカルの挙動
5-2 その他、あまりよくわかっていないことなど
5-3 簡単なEB装置の紹介
 
6.まとめ
【質疑応答】

第2部 EB硬化性樹脂に向けた照射装置の特性と上手な使い方、技術動向


【14:40-16:10】

講師:(株)アイ・エレクトロンビーム 代表取締役 木下 忍 氏

【キーワード】
1.低エネルギーEB
2.光重合開始剤レス
3.ローマイグレーション

【講演趣旨】
環境にやさしい樹脂の硬化技術として、無溶剤の樹脂を使用する事からUV硬化技術、EB硬化技術が挙げられるが、前者は光化学反応、後者は放射線化学反応を利用しており、
異なる点が多い。特に、光重合開始剤を添加しない樹脂でも硬化するEB硬化技術が印刷関係等で注目されている。また、EB照射装置も小型化、安価となってきているため、実用化しやすい環境となっている。そこで、EB硬化技術について、基礎から応用までを解説する。

【プログラム】
1.はじめに
 1-1 電子線(EB)とは
 1-2 光化学反応と放射線化学反応について
 1-3 UV硬化とEB硬化の違い

2.低エネルギーEB照射装置(加速器)
 2-1  低エネルギーEB装置構成
 2-2 1次電子発生メカニズム
 2-3 1次電子のエネルギーを決める因子について
 2-4 X線、オゾン対策
 2-5 実装置の紹介
 2-6 法規制

3.エネルギーの測定方法

4.EB硬化樹脂
 4-1 EB硬化樹脂について
 4-2 EB硬化樹脂への照射された1次電子の振舞
 4-3 EB硬化で気を付ける事
 (1)樹脂の厚みと硬化に必要な加速電圧
 (2)酸素阻害
 (3)硬化収縮

5.その他の応用事例
 (1)微生物の不活化 
 (2)架橋
 (3)グラフト重合

6.まとめ
【質疑応答】


<確認事項>

  • その他、ご不明な点は備考欄にご記入ください。

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