感光性樹脂・フォトレジストの処理技術開発実態分析調査報告書

感光性樹脂・フォトレジストの処理技術開発実態分析調査報告書

特許情報分析(パテントマップ)から見た<他社の技術開発の実態を把握し、勝ち抜くためのエッセンス>

価格45,455円+税 出版社パテントテック社
編集者インパテック株式会社 発行日2015年11月16日
体裁A4版、全289頁、簡易製本 ISBN978-4-86483-606-7
送料送料無料 商品番号153075
セット購入※下記をご希望の場合は備考欄にご記入下さい。
01:CD-ROM版のみ[商品番号:153075C] 62,500円(税込)
02:書籍版とCD-ROM版のセット 92,500円(税込)
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本誌の特徴等

1.調査目的

  • 「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
    • (1)どの感光性樹脂・フォトレジストの処理関連企業にどのような技術の公開があるか、
    • (2)各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
    • (3)最近10年余における関連技術の消長はどのようになっているか、
    • (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、
    • (5)直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
    • (6)この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか、
  • 等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法

  • 本調査報告書は、「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する過去10年余(国内公開日:2005年1月1日~2015年9月30日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
    特許情報公報の総数は8,127件である。

3.報告書の構成

  • 本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。
    1.パテントマップ編
    • A.直近2年間に新規出現した出願人、分類による動向分析(2013年10月~2015年9月)
    • B.全般分析
    • C.上位20出願人比較分析
    • D.上位5出願人個別分析
    • E.上位4社比較分析(1位 富士フイルム、2位 コニカミノルタ、3位 JSR、4位 東京応化工業)
    • F.上位20特許分類分析
    • G.特定特許分類分析
    • H.キーワード分析 ※キーワードは発明の名称、要約、請求の範囲から抽出し分析を行った。
    • I.弁理士(特許事務所)の動向分析
    2.パテントチャート編
    3.総括コメント

4.本報告書の特徴

  • 「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
  • 本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
  • パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際の頁例

パテントマップ実例

本文中の実際の頁例

目次

はじめに

調査分析結果

1.パテントマップ編

  • A.直近2年間に新規出現した出願人、分類による動向分析(2013年10月~2015年9月)
    • A-1.出願人別公開件数ランキング(上位20)
    • A-2.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
    • A-3.Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
    • A-4.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、月次)
    • A-5.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、月次)
    • A-6.FIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
    • A-7.Fターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
    • A-8.出願人別公開件数伸長率
    • A-9.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(公開件数上位50)
    • A-10.Fターム分類別公開件数伸長率(公開件数上位50)
    • A-11.出願人(上位20)とFIサブグループ分類(上位20)の相関
    • A-12.出願人(上位20)とFターム分類(上位20)の相関
    • 【資料1】2013年10月~2015年9月に新規出現したFIサブグループ分類リスト(上位100)
    • 【資料2】2013年10月~2015年9月に新規出現したFターム分類リスト(上位100)
  • B.全般分析
    • B-1.全体の技術開発ライフサイクル
    • B-2.公開件数の推移(年次と累計)
    • B-3.出願人数の推移(年次と累計)
    • B-4.新規発明者数の推移(年次と累計)
    • B-5.新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
    • B-6.新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
    • B-7.新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
    • B-8.出願人別公開件数ランキング(上位100)
    • B-9.発明者別公開件数ランキング(上位50)
    • B-10.FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • B-11.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
    • B-12.Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
    • B-13.Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
    • B-14.1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数(着目:2期間)
    • B-15.1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数(着目:上位5社)
    • B-16.出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
    • B-17.FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
    • B-18.FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
    • B-19.Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
    • B-20.出願人別公開件数伸長率(件数差5件以上)
    • B-21.発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差20件以上)
    • B-22.FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
    • B-23.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
    • B-24.Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
    • B-25.FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差10名以上)
    • B-26.FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差10名以上)
    • B-27.Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)
  • C.上位20出願人比較分析
    • C-1.公開件数比較(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
    • C-2.公開件数の推移(累計)
    • C-3.共同出願人数の推移(累計)
    • C-4.新規発明者数の推移(累計)
    • C-5.新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
    • C-6.新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
    • C-7.新規Fターム分類数の推移(累計)
    • C-8.新規キーワード数の推移(累計)
    • C-9.上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
    • C-10.上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
    • C-11.上位20Fターム分類との公開件数相関
    • C-12.Fタームテーマコード分類1位と2位における公開件数比較
    • C-13.公開件数占有率
    • C-14.審査・権利状況
    • C-15.公開件数の伸びと1位Fターム分類2H196AA25に関する構成率比較
    • C-16.発明者数*Fターム分類数の比較
  • D.上位5社個別分析
    • D-1-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-1-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-1-3.【JSR】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-1-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-1-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-2-1.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-2-2.【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-2-3.【JSR】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-2-4.【東京応化工業】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-2-5.【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-3-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-3-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-3-3.【JSR】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-3-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-3-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-4-1.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-4-2.【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-4-3.【JSR】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-4-4.【東京応化工業】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-4-5.【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • D-5-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    • D-5-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    • D-5-3.【JSR】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    • D-5-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    • D-5-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    • D-6-1.【富士フイルム】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
    • D-6-2.【コニカミノルタ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
    • D-6-3.【JSR】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
    • D-6-4.【東京応化工業】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
    • D-6-5.【東京エレクトロン】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
    • D-7-1.【富士フイルム】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-7-2.【コニカミノルタ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
    • D-7-3.【JSR】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    • D-7-4.【東京応化工業】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
    • D-7-5.【東京エレクトロン】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
    • D-8-1.【富士フイルム】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    • D-8-2.【コニカミノルタ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    • D-8-3.【JSR】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    • D-8-4.【東京応化工業】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    • D-8-5.【東京エレクトロン】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    • D-9-1.【富士フイルム】共同出願人との連携
    • D-9-2.【コニカミノルタ】共同出願人との連携
    • D-9-3.【JSR】共同出願人との連携
    • D-9-4.【東京応化工業】共同出願人との連携
    • D-9-5.【東京エレクトロン】共同出願人との連携
  • E.上位4社比較分析
    • E-1.4社の上位20FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
    • E-2.4社の富士フイルム上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    • E-3.4社のコニカミノルタ上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    • E-4.4社のJSR上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    • E-5.4社の東京応化工業上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    • E-6.4社の2H196AA(感光性樹脂・フォトレジストの処理>目的、用途)のFターム分類別公開件数ランキング(上位10)
    • E-7.4社の2H196BA(感光性樹脂・フォトレジストの処理>感光性材料)のFターム分類別公開件数ランキング(上位10)
    • E-8.4社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
    • E-9.4社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
    • E-10.富士フイルムの公開件数伸び変遷
    • E-11.コニカミノルタの公開件数伸び変遷
    • E-12.JSRの公開件数伸び変遷
    • E-13.東京応化工業の公開件数伸び変遷
    • E-14.4社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
    • E-15.Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
  • F.上位20特許分類分析
    • F-1.FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
    • F-2.FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
    • F-3.Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
    • F-4.FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • F-5.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • F-6.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    • F-7.FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    • F-8.FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    • F-9.Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    • F-10.FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    • F-11.FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    • F-12.Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    • F-13.FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
    • F-14.FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
    • F-15.Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
  • G.特定特許分類分析
    • G-1.特定特許分類分析(1)
    • G-1-1.特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
    • G-1-2.特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
    • G-1-3.特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
    • G-1-4.特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
    • G-1-5.特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
    • G-1-6.特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
    • G-1-7.特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
    • G-1-8.特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
    • G-1-9.特定FIサブグループ分類H01L21/30の公開件数伸長率変遷
    • G-1-10.特定FIサブグループ分類G03F7/004の公開件数伸長率変遷
    • G-1-11.特定Fターム分類2H196AA25の公開件数伸長率変遷
    • G-1-12.特定Fターム分類2H196GA08の公開件数伸長率変遷
    • G-1-13.特定FIサブグループ分類H01L21/30の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-1-14.特定FIサブグループ分類G03F7/004の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-1-15.特定Fターム分類2H196AA25の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-1-16.特定Fターム分類2H196GA08の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2.特定特許分類分析(2)
    • G-2-1.特定Fターム分類2H196AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2-2.特定Fターム分類2H196BA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2-3.特定Fターム分類2H196EA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2-4.特定Fターム分類2H196GA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2-5.特定Fターム分類2H196HA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    • G-2-6.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数比較(上位10)
    • G-2-7.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数比較(上位10)
    • G-2-8.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数比較(上位10)
    • G-2-9.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数比較(上位10)
    • G-2-10.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数比較(上位10)
    • G-2-11.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
    • G-2-12.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
    • G-2-13.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
    • G-2-14.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
    • G-2-15.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
    • G-2-16.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196BA関連(上位10)との公開件数相関
    • G-2-17.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196EA関連(上位10)との公開件数相関
    • G-2-18.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196GA関連(上位10)との公開件数相関
    • G-2-19.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196HA関連(上位10)との公開件数相関
    • G-2-20.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
    • G-2-21.特定Fターム分類2H196BA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
    • G-2-22.特定Fターム分類2H196EA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
    • G-2-23.特定Fターム分類2H196GA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
    • G-2-24.特定Fターム分類2H196HA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
    • G-2-25.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数伸長率変遷
    • G-2-26.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数伸長率変遷
    • G-2-27.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数伸長率変遷
    • G-2-28.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数伸長率変遷
    • G-2-29.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数伸長率変遷
  • H.キーワード分析
    • H-1.特定特許分類分析(1)
    • H-1.キーワード別公開件数ランキング(上位100)
    • H-2.キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数5件以上)
    • H-3.キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差30件以上)
  • I.弁理士(特許事務所)の動向分析
    • I-1.弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
    • I-2.上位40弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(年次)
    • I-3.上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
    • I-4.上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2.パテントチャート編

  • (1)東レの時系列チャート分析
  • (2)日立化成デュポンマイクロシステムズの時系列チャート分析
  • (3)東レの1位と3位Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
  • (4)日立化成デュポンマイクロシステムズの上位2Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
  • (5)東レのFタームコード2H196の技術分類マトリクスチャート
  • (6)飯原明宏など4名(東レ)の公報4件のサイテーションマップ

3.総括コメント

  • <参考資料>
  • 【資料3】出願人統合リスト
  • 【資料4】上位20出願人の発明者リスト
  • 【資料5】富士フイルムの最新40件公報の審査権利状況リスト
  • 【資料6】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方